檢索結果：共9筆資料 檢索策略： "Hung-Fei Kuo".ecommittee (精準) and cadvisor.raw="郭鴻飛"
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微影製程是不斷發展的半導體產業中非常重要技術之一，這項技術利用光學投影將線路結構曝光於晶圓上，製造出微米甚至是奈米等級尺寸之電路。相對於傳統的微影製程，數位微影製程不再需要使用光罩，而是透過各種光學…
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在半導體的先進製程中，對準誤差量測技術(Overlay Metrology)為關鍵的製程步驟，準確地測量出積體電路層與層之間的對準誤差(Overlay)，可以有效減少製程的重工率進而降低製程成本。D…
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本論文將粒子群多目標最佳化（MOPSO）演算法整合到光源和光罩同步優化（SMO）過程中，以增強極紫外（EUV）光刻成像的性能。本研究開發了同步處理光源和光罩圖案的方法。對於自由形式的光源結構基於像素…
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在線路圖案的定義過程，無論是使用什麼型態的曝光系統，對準量測技術皆為關鍵的製程步驟，在曝光之前能夠準確的將載台進行可以有效減少製程的重工率，進而降低製程成本。本實驗室在先前的研究過程中，發現使用數位…
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積體電路的飛速發展有賴於其中的關鍵製程微影技術不斷提高的工藝水平，而對準誤差(Overlay)作爲微影製程的重要指標因素，成爲需要不斷精進的控制對象，同時也需要做到愈發追求極緻的精準量測。目前，基於…
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在半導體製程中，先進封裝(Advanced Package, AP)被視為持續摩爾定律的辦法之一，使用不同功能之晶片將其進行堆疊，並使用先進封裝可以得到較小的元件尺寸，本文將研究探討數位微影曝光系統…
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印刷電路板(Printed circuit board, PCB)在電子工業佔著舉足輕重的地位，在先進檢測中，基於機器視覺的自動化光學檢測（Automated Optical Inspection,…
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雷射直寫技術之於黃光微影製程的優勢是無需光罩，而以雷射光束聚焦在光阻上直接定義電路圖案，對此一個基於雙軸振鏡的雷射掃描系統，能夠將數十微米的聚焦光點快速定位在曝光面的任意處，不過掃描過程中存在像場變…
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現今印刷電路板(Printed Circuit Board, PCB)產業蓬勃發展，生產逐漸精密化且線寬越來越小，為了提升印刷電路板製程的品質，必須要進行有效率的檢測。傳統是以人工目視辨別印刷電路板…